芯片设计学什么专业
芯片设计可以学微电子学专业。微电子学专业是以集成电路设计、制造与应用为代表的学科，是现代发展最迅速的高科技应用性学科之一。该专业主要是培养掌握集成电路、微电子系统的设计、制造工艺和设计软件系统，能在微电子及相关领域从事科研、教学、工程技术及技术管理等工作的高级专门人才。其次微电子学专业所包含的课程有：语文、政治、数学、英语、计算机基础等。其次是专业课程,包括《电路分析基础》、《模拟电子技术》、《数字电子技术》、《高频电子线路》、《集成电路工艺基础》、《计算机辅助设计CAD》、《材料科学基础》、《微控制器应用》、《材料制备技术》等。
芯片设计需要计算机知识吗
芯片设计需要计算机知识，但是不是计算机知识。设计芯片的专业是微电子方面的专业。以集成电路设计、制造与应用为代表的学科，是现代发展最迅速的高科技应用性学科之一。主要是集成电路、微电子系统的设计、制造工艺和设计软件系统，能在微电子及相关领域从事科研、教学、工程技术及技术管理等工作的高级专门人才。微电子学又是信息领域的重要基础学科，在这一领域上，微电子学是研究并实现信息获取、传输、存储、处理和输出的科学，是研究信息载体的科学，构成了信息科学的基石，其发展水平直接影响着整个信息技术的发展。微电子科学技术的发展水平和产业规模是一个国家经济实力的重要标志。计算机专业主要课程有：电子技术、离散数学、程序设计、数据结构、操作系统、计算机组成原理、微机系统、计算机系统结构、编译原理、计算机网络、数据库系统、软件工程、人工智能、计算机图形学、数字图像处理、计算机通讯原理、多媒体信息处理技术。数字信号处理、计算机控制、网络计算、算法设计与分析、信息安全、应用密码学基础、信息对抗、移动计算、数论与有限域基础、人机界面设计、面向对象程序设计等。以上内容参考：百度百科--芯片设计
芯片的制作流程及原理
芯片的制作流程大体分为以下几个步骤：1. 单晶片的原材料：芯片制作的原材料主要是硅片（Silicon Wafer），它是一种高纯度硅的圆形薄片。2. 光刻技术：在硅片上用特殊设备将需要制作的电路图案进行曝光修复，即彩色照相（Photolithography），然后用化学方式形成图案。这个过程需要反复多次，逐步形成复杂的电路图案。3. 氮化物层和电极连接：在硅片和电极之间加一层氮化物层，以保护芯片不受化学反应的影响。然后，整个芯片的电极进行连接，连接中采用电火花机（Spark Erosion）加工技术。4. 增强金属材料：增强芯片的强度，保护芯片不被损坏。增强材料可以是不同的金属或塑料材料，也可以是玻璃纤维等。5. 清洗和测试：清洗芯片，以保证其纯度和光滑度。然后进行电性能测试和声学测试，确保芯片达到性能需求。芯片的工作原理是根据光刻技术和微电子技术，用掩膜和光刻物等半导体材料制成和光控制器（MOS）结构上集成了许多晶体管。当外界施加一定量的电流或电压时，芯片可以实现不同的功能，例如计算、存储和通信等。芯片结构的设计和制造工艺都是十分精细的，才能保证芯片的性能和稳定性。
芯片是怎样制成的？
电源管理芯片制造过程一般包括电源芯片设计、晶片制作、封装制作、测试等几个环节，其中晶片制作过程 尤为的复杂，首先是集成电路芯片设计，根据设计的需求，生成的“图样”，如果想做电源方案，我可以给你推荐下。芯片内部制造工艺：芯片制造的整个过程包括芯片设计、芯片制造、封装制造、测试等。芯片制造过程特别复杂。首先是芯片设计，根据设计要求，生成“图案”1、晶片材料硅片的成分是硅，硅由石英砂精制而成。硅片经硅元素（99．999％）提纯后制成硅棒，成为制造集成电路的石英半导体材料。芯片是芯片制造所需的特定晶片。晶圆越薄，生产成本就越低，但对工艺的要求就越高。2、晶圆涂层晶圆涂层可以抵抗氧化和温度，其材料是一种光致抗蚀剂。3、晶圆光刻显影、蚀刻首先，在晶圆（或基板）表面涂覆一层光刻胶并干燥。干燥的晶片被转移到光刻机上。通过掩模，光将掩模上的图案投射到晶圆表面的光刻胶上，实现曝光和化学发光反应。曝光后的晶圆进行二次烘烤，即所谓曝光后烘烤，烘烤后的光化学反应更为充分。最后，显影剂被喷在晶圆表面的光刻胶上以形成曝光图案。显影后，掩模上的图案保留在光刻胶上。糊化、烘烤和显影都是在均质显影剂中完成的，曝光是在平版印刷机中完成的。均化显影机和光刻机一般都是在线操作，晶片通过机械手在各单元和机器之间传送。整个曝光显影系统是封闭的，晶片不直接暴露在周围环境中，以减少环境中有害成分对光刻胶和光化学反应的影响。4、添加杂质相应的p和n半导体是通过向晶圆中注入离子而形成的。具体工艺是从硅片上的裸露区域开始，将其放入化学离子混合物中。这个过程将改变掺杂区的传导模式，使每个晶体管都能打开、关闭或携带数据。一个简单的芯片只能使用一层，但一个复杂的芯片通常有许多层。此时，该过程连续重复，通过打开窗口可以连接不同的层。这与多层pcb的制造原理类似。更复杂的芯片可能需要多个二氧化硅层。此时，它是通过重复光刻和上述工艺来实现的，形成一个三维结构。5、晶圆经过上述处理后，晶圆上形成点阵状晶粒。用针法测试了各晶粒的电学性能。一般来说，每个芯片都有大量的晶粒，组织一次pin测试模式是一个非常复杂的过程，这就要求尽可能批量生产相同规格型号的芯片。数量越大，相对成本就越低，这也是主流芯片设备成本低的一个因素。6、封装同一片芯片芯可以有不同的封装形式，其原因是晶片固定，引脚捆绑，根据需要制作不同的封装形式。例如：DIP、QFP、PLCC、QFN等，这主要取决于用户的应用习惯、应用环境、市场形态等外围因素。6、测试和包装经过上述过程，芯片生产已经完成。这一步是测试芯片，去除有缺陷的产品，并包装。
